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光伏百科:硅片清洗及原理

来源:http://bkqpz.cn 责任编辑:环亚ag88手机版 2018-10-06 09:03

  光伏百科:硅片清洗及原理

硅片清洗机

  硅片的清洗很重要,它影响电池的变换功率,如器材的功能中反向电流敏捷加大及器材失效等。因而硅片的清洗很重要,下面首要介绍清洗的效果和清洗的原理。

   清洗的效果

  1.在太阳能资料制备过程中,在硅外表涂有一层具有杰出功能的减反射薄膜,有害的杂质离子进入二氧化硅层,会下降绝缘功能,清洗后绝缘功能会更好。

  2.在等离子边际腐蚀中,如果有油污、水气、尘埃和其它杂质存在,会影响器材的质量,清洗后质量大大提高。

  3.硅片中杂质离子会影响P-N 结的功能,引起P-N 结的击穿电压下降和外表漏电,影响P-N 结的功能。

  4.在硅片外延工艺中,杂质的存在会影响硅片的电阻率不稳定。

  清洗的原理

  要了解清洗的原理,首要有必要了解杂质的类型,杂质分为三类:一类是分子型杂质,包含加工中的一些有机物;二类是离子型杂质,包含腐蚀过程中的钠离子、氯离子、氟离子等;三是原子型杂质,如金、铁、铜和铬等一些重金属杂质。现在最常用的清洗办法有:化学清洗法、超声清洗法和真空高温处理法。

  1.现在的化学清洗过程有两种:

  (1)有机溶剂(甲苯、丙酮、酒精等)→去离子水→无机酸(盐酸、硫酸、硝酸、王水)→氢氟酸→去离子水

  (2)碱性过氧化氢溶液→去离子水→酸性过氧化氢溶液→去离子水